[实用新型]一种沉积非晶硅薄膜的真空设备

摘要

本实用新型涉及一种用于沉积非晶硅薄膜的真空设备，真空泵组通过真空管道和沉积腔室相连，以保证沉积薄膜时所需的真空环境。沉积腔室通过螺栓固定在支撑平台上。在沉积腔室的侧面对称设有样品门和观测窗，能方便样品的取放以及观察样品的成膜情况。水冷腔室设置在沉积腔室的外部，沉积薄膜时能对沉积腔室和相关零部件进行充分的冷却。ETP等离子体源安装于沉积腔室的正上方中心轴线上，用于产生高密度等离子体，对沉积气体进行离化。特气喷嘴与真空沉积腔室连接。加热系统和样品台置于腔室底部中心，用于盛放样品和对样品进行加热。本实用新型实现了单腔室、快速沉积，可对生产进行模拟和样品分析。

主权项

一种沉积非晶硅薄膜的真空设备，包括水冷腔室和沉积腔室，其特征在于：还包括真空泵组（1），真空泵组（1）通过真空管道（10）和沉积腔室（8）相连；沉积腔室（8）通过螺栓固定在支撑平台（7）上；在沉积腔室（8）的侧面对称地设置有样品门（2）和观测窗（201）；水冷腔室（3）设置在沉积腔室（8）的外部；ETP等离子体源(4)安装于沉积腔室（8）的正上方中心轴线上，特气喷嘴（9）与真空沉积腔室（8）连接；加热系统（5）和样品台（6）置于腔室底部中心。