[实用新型]特气管路及具有其的等离子体增强化学气相带电沉积设备有效
申请号: | 201220349119.6 | 申请日: | 2012-07-18 |
公开(公告)号: | CN202688437U | 公开(公告)日: | 2013-01-23 |
发明(设计)人: | 李智洋 | 申请(专利权)人: | 保定天威英利新能源有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/50 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 吴贵明;余刚 |
地址: | 071051 河北*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种特气管路及具有其的等离子体增强化学气相带电沉积设备。该特气管路包括分气管,内部具有气体容纳腔,侧壁上设置有与气体容纳腔相通的特气孔;进气管,一端与分气管内部的气体容纳腔连通,另一端与气源连通;分气管的两端部分别具有一个开口,分气管还包括用于封堵开口的第一封堵件和第二封堵件,第一封堵件和第二封堵件可拆卸地连接在分气管上。本实用新型的特气管路的分气管的两端部设置两个开口,在特气管路工作时利用第一封堵件和第二封堵件将开口密封;当需要对特气管路进行维护时,通过其中一个开口向分气管的气体容纳腔内充气以吹扫附着在分气管的内壁和特气孔的侧壁上的氮化硅粉末等杂质,取得较好的清理效果。 | ||
搜索关键词: | 管路 具有 等离子体 增强 化学 带电 沉积 设备 | ||
【主权项】:
一种特气管路,包括:分气管(1),内部具有气体容纳腔,侧壁上设置有与所述气体容纳腔相通的特气孔(13);进气管(2),一端与所述分气管(1)内部的气体容纳腔连通,另一端与气源连通;其特征在于,所述分气管(1)的两端部分别具有一个开口,所述分气管(1)还包括用于封堵所述开口的第一封堵件(11)和第二封堵件(12),所述第一封堵件(11)和第二封堵件(12)可拆卸地连接在所述分气管(1)上。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的