[实用新型]平面灰尘足迹拍摄遮光罩有效
| 申请号： | 201220361012.3 | 申请日： | 2012-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN202677039U | 公开（公告）日： | 2013-01-16 |
| 发明（设计）人： | 石世民 | 申请（专利权）人： | 石世民 |
| 主分类号： | G03B15/06 | 分类号： | G03B15/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 530012 广*** | 国省代码： | 广西;45 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种平面灰尘足迹的拍摄辅助装置。包括罩体、百叶式叶片、拍摄孔、照射窗和吸光涂层。本实用新型为拍摄平面灰尘足迹提供了一个暗环境，通过掠射光照射窗控制掠射光角度，百叶式叶片改变掠射光在罩体内壁的反射方向，提高平面灰尘足迹的显现效果，结构简单，使用方便。 | ||
| 搜索关键词： | 平面 灰尘 足迹 拍摄 遮光 | ||
【主权项】：
一种平面灰尘足迹拍摄遮光罩，包括罩体、拍摄孔，其特征是：在罩体一侧底部边缘开一个掠射光照射窗，正对掠射光照射窗的罩体内壁上安置照射光反射装置。
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