[实用新型]物理气相沉积设备有效

专利信息
申请号: 201220376954.9 申请日: 2012-07-31
公开(公告)号: CN202705452U 公开(公告)日: 2013-01-30
发明(设计)人: 何龑;杨小军 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: C23C14/22 分类号: C23C14/22;H01L21/203
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅;李时云
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型提出物理气相沉积设备包括:添加一种前端固定带小孔圆形净化盘的快闪手臂,并通过从物理气相沉积工艺腔外接入的一净化气体管路向圆形净化盘的小孔通气,对电子卡盘表面进行气体吹拂,从而达到去除颗粒的效果,进而增加电子卡盘对半导体晶片吸力的稳定性,避免了破片的情况发生。
搜索关键词: 物理 沉积 设备
【主权项】:
一种物理气相沉积设备,其特征在于,其主要部件包含:一物理气相沉积腔室,一侧设有开口;一基底撑,固定在所述物理气相沉积腔室内底部;一电子卡盘,位于所述物理气相沉积腔室内并固定在所述基底撑顶部;一快闪手臂,位于在所述物理气相沉积腔室设有开口的一侧,通过所述开口进出所述物理气相沉积腔室;一遮盘,位于所述物理气相沉积腔室内并平放在所述快闪手臂前端的上表面;一带小孔的圆形净化盘,位于所述物理气相沉积腔室内并固定在所述快闪手臂前端下表面,所述小孔朝向所述电子卡盘的上表面;一净化气体管路,从所述开口伸入到所述物理气相沉积腔室中并与所述带小孔的圆形净化盘相接,连通所述小孔。
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