[实用新型]一种镀膜设备

摘要

本实用新型公开了一种镀膜设备，提供了一种新的布气方式，其布气管道设置在真空腔室内的进气口具体为两组，包括第一组进气口和第二组进气口，其中的第一组进气口设置在靠近靶材的一侧，第二组进气口设置在远离靶材，且靠近基片的一侧，气体分别从这两组进气口进入镀膜腔室，气体中一部分从靶材附近进气，另一部分从远离靶材靠近基片位置处进气，这样就会减少靶材表面生成反应生成化合物（绝缘层），从而减少弧光放电、脱膜现象；同时这种布气方式更容易控制气体分布的均匀性，从而有利于控制膜厚的均匀；进一步的，通过优化从靶材附近进气量与远离靶材靠近基片位置处进气量之比，可以获得膜层的均匀性好而同时大大较少弧光放电、脱膜现象等效果。

主权项

一种镀膜设备，包括真空腔室（11）、布气管道以及在所述真空腔室（11）中相对设置的基片（12）和靶材（13），其特征在于，所述布气管道设置在所述真空腔室（11）内的进气口（14）具体为两组，包括第一组进气口和第二组进气口，其中的所述第一组进气口设置在靠近所述靶材（13）的一侧，所述第二组进气口设置在远离所述靶材（13），且靠近所述基片（12）的一侧。