[实用新型]一种激光褪火设备有效

专利信息
申请号: 201220396429.3 申请日: 2012-08-06
公开(公告)号: CN202684325U 公开(公告)日: 2013-01-23
发明(设计)人: 沈奇雨;陈旭;郭建 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司
主分类号: B23K26/067 分类号: B23K26/067;H01L21/268
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100176 北京市大*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型提供一种激光褪火设备,涉及面板制造领域,能够解决传统的激光褪火设备激光光束宽度窄的问题。激光褪火设备包括:放置玻璃基板的载台;位于载台上方的,用于发射激光光束的光源;设置于光源的出射光线行进方向上的第一光学模块;第一光学模块用于将光源发射的激光光束改变为向下的面向载台的第一激光光束,和射向位于第一光学模块一侧的第二光学模块的第二激光光束;设置于第二激光光束行进方向上的第二光学模块至少有一个,第二光学模块用于将第二激光光束改变为至少有一束向下的面向载台的第三激光光束;在移动照射所述载台时,第三激光光束的照射范围与第一激光光束的照射范围不同。本实用新型用于基板的激光褪火。
搜索关键词: 一种 激光 设备
【主权项】:
一种激光褪火设备,其特征在于,包括:放置玻璃基板的载台;位于所述载台上方的,用于发射激光光束的光源;设置于所述光源的出射光线行进方向上的第一光学模块;所述第一光学模块用于将所述光源发射的激光光束改变为向下的面向所述载台的第一激光光束,和射向位于所述第一光学模块一侧的第二光学模块的第二激光光束;设置于所述第二激光光束行进方向上的所述第二光学模块至少有一个,所述第二光学模块用于将所述第二激光光束改变为至少有一束向下的面向所述载台的第三激光光束;移动照射所述载台时,所述第三激光光束的照射范围与所述第一激光光束的照射范围不同。
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