[实用新型]基于控制腐蚀的气囊式研抛装置有效
| 申请号： | 201220407973.3 | 申请日： | 2012-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN202825477U | 公开（公告）日： | 2013-03-27 |
| 发明（设计）人： | 马臻;许亮;丁蛟腾;陈钦芳 | 申请（专利权）人： | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | B24B13/01 | 分类号： | B24B13/01;B24B41/04;B24B51/00 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人： | 杨引雪 |
| 地址： | 710119 陕西省西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种基于控制腐蚀的气囊式研抛装置，主要解决了现有光学元件，尤其是非球面光学元件加工时成本较高，加工效率较低的问题。该基于控制腐蚀的气囊式研抛装置包括连接有气泵的气囊式抛光头，气囊式抛光头包括设置在抛光头主体上的气囊，还包括承载机构和腐蚀液储液槽，承载机构一侧用于承载被加工元件，本实用新型实现了非球面的整体研抛，而不是常用的环带修抛，把非球面的加工难度降低到了球面加工的水平；另外将化学腐蚀机理引入光学加工，并通过加热实现腐蚀速率的加快，显著提高了光学元件的材料去除水平，可完成大非球面度的铣磨工作，且实现了非球面铣磨与抛光在同一台机床上完成。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 控制 腐蚀 气囊 式研抛 装置 | ||
【主权项】：
一种基于控制腐蚀的气囊式研抛装置，包括连接有气泵的气囊式抛光头，气囊式抛光头包括设置在抛光头主体上的气囊，其特征在于：还包括承载机构和腐蚀液储液槽，承载机构一侧用于承载被加工元件，承载机构使被加工元件全部浸泡在腐蚀液储液槽内，承载机构另一侧与转轴固定连接；所述设置抛光头主体上的气囊内表面设置有用于生成稳定环带温度场的加热装置，加热装置与控制装置连接。
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