[实用新型]晶体高温退火槽的槽底构造有效
申请号: | 201220421816.8 | 申请日: | 2012-08-23 |
公开(公告)号: | CN203144558U | 公开(公告)日: | 2013-08-21 |
发明(设计)人: | 万文;万黎明 | 申请(专利权)人: | 巢湖市环宇光学技术有限公司 |
主分类号: | C30B33/02 | 分类号: | C30B33/02 |
代理公司: | 安徽汇朴律师事务所 34116 | 代理人: | 胡敏 |
地址: | 238000 *** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种晶体高温退火槽的槽底构造,包括保护层,上述保护层的顶面固定有保护层,低层由若干基层叠加固定而成。本实用新型的有益效果在于,在槽底低层上增加保护层,可以起到减少由于退火工作对低层的损伤,增加了退火槽的使用寿命,提高了生产效率;同时在保护层损伤较大后可以进行替换而不用对退火槽进行整体替换,间接的减少了生产成本。 | ||
搜索关键词: | 晶体 高温 退火 构造 | ||
【主权项】:
一种晶体高温退火槽的槽底构造,包括底层,其特征在于,所述底层的顶面固定有保护层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于巢湖市环宇光学技术有限公司,未经巢湖市环宇光学技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201220421816.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。