[实用新型]具有热解氮化硼保护层的蒸发坩埚有效
| 申请号： | 201220429012.2 | 申请日： | 2012-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN202792948U | 公开（公告）日： | 2013-03-13 |
| 发明（设计）人： | 何军舫;王军勇 | 申请（专利权）人： | 北京博宇半导体工艺器皿技术有限公司 |
| 主分类号： | F27B14/10 | 分类号： | F27B14/10;C23C16/34 |
| 代理公司： | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 | 代理人： | 王伟锋;刘铁生 |
| 地址： | 101101 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种具有热解氮化硼保护层的蒸发坩埚，包括坩埚本体，所述坩埚本体具有内表面和外表面，至少内表面覆有热解氮化硼保护层。所述内表面和外表面均具有热解氮化硼保护层。所述热解氮化硼保护层的厚度为0.01-3mm。所述热解氮化硼保护层通过化学气相沉积法覆于坩埚本体的表面。所述坩埚本体为石墨或陶瓷制成。本实用新型的具有热解氮化硼保护层的蒸发坩埚不但有效控制物质挥发，而且成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 氮化 保护层 蒸发 坩埚 | ||
【主权项】：
具有热解氮化硼保护层的蒸发坩埚，包括坩埚本体，所述坩埚本体具有内表面和外表面，其特征在于，至少内表面覆有热解氮化硼保护层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京博宇半导体工艺器皿技术有限公司，未经北京博宇半导体工艺器皿技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201220429012.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：石煤提钒焙设备
- 下一篇：一种坩埚炉体打结模具
