[实用新型]一种防尘真空等离子腔室有效
| 申请号： | 201220433533.5 | 申请日： | 2012-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN202839529U | 公开（公告）日： | 2013-03-27 |
| 发明（设计）人： | 施露;邱勇;黄秀颀;林立;魏博 | 申请（专利权）人： | 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/02 | 分类号： | H01J37/02 |
| 代理公司： | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人： | 张杰 |
| 地址： | 215300 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种防尘真空等离子腔室，其包括上腔室（1）和下腔室（2），所述上腔室（1）和所述下腔室（2）之间通过设置于所述下腔室（2）上端面的密封槽（21）内的密封圈（3）实现密封连接，所述下腔室（2）的上端面上具有防尘凸起（22），所述防尘凸起（22）相对所述密封圈（3）接近腔室内壁设置。该真空等离子腔室解决了密封圈老化形成的尘粒污染腔室内基板的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 防尘 真空 等离子 | ||
【主权项】：
一种防尘真空等离子腔室，其包括上腔室（1）和下腔室（2），所述上腔室（1）和所述下腔室（2）之间通过设置于所述下腔室（2）上端面的密封槽（21）内的密封圈（3）实现密封连接，其特征在于：所述下腔室（2）的上端面上具有防尘凸起（22），所述防尘凸起（22）相对所述密封圈（3）接近腔室内壁设置。
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