[实用新型]一种洁净微环境有效
| 申请号： | 201220483579.8 | 申请日： | 2012-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN202839558U | 公开（公告）日： | 2013-03-27 |
| 发明（设计）人： | 杨政谕;周步东 | 申请（专利权）人： | 亚翔系统集成科技（苏州）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;B01D46/00 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 陶海锋;陆金星 |
| 地址： | 215126 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种洁净微环境，包括一洁净空间，洁净空间的顶部设有气相过滤器和风机；洁净空间的侧面设有工作台，工作台和洁净空间之间设有工作台出气口；所述洁净空间的一侧设有一循环空间，循环空间和洁净空间之间设有气体通道，循环空间的出气口与所述气相过滤器连通，使洁净空间、循环空间和气相过滤器构成一空气循环系统；所述洁净空间的底部为封闭系统。本实用新型利用了一部分从洁净空间里出来的过滤后气体作为气源，而这部分过滤后气体由于具有较低的杂质含量，从而降低了气相过滤器的工作负荷，有利于气相过滤器的长期使用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 洁净 环境 | ||
【主权项】：
一种洁净微环境，包括一洁净空间(1)，洁净空间的顶部设有气相过滤器(2)和风机(3)；洁净空间的侧面设有工作台(4)，工作台和洁净空间之间设有工作台出气口；其特征在于：所述洁净空间的一侧设有一循环空间(5)，循环空间和洁净空间之间设有气体通道(6)，循环空间的出气口与所述气相过滤器连通，使洁净空间、循环空间和气相过滤器构成一空气循环系统；所述洁净空间的底部为封闭系统。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
