[实用新型]自抑制泄漏的密封齿形结构有效
申请号: | 201220498041.4 | 申请日: | 2012-09-26 |
公开(公告)号: | CN202851975U | 公开(公告)日: | 2013-04-03 |
发明(设计)人: | 王炜哲;刘应征;施圣贤 | 申请(专利权)人: | 上海交通大学 |
主分类号: | F16J15/447 | 分类号: | F16J15/447 |
代理公司: | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人: | 林君如 |
地址: | 200240 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型涉及自抑制泄漏的密封齿形结构,包括转子、静子及密封齿,转子位于静子的下方,密封齿设有数个,垂直固定于静子或转子上,密封齿与其相对应的转子或静子之间保持有间隙,各密封齿之间设有膨胀控室。与现有技术相比,本实用新型能够有效减少密封泄漏量,提高机组运行的经济性,另外,齿顶开槽可以降低密封齿与转子或静子发生碰撞或摩擦时对转子或静子的损伤,从而提高机组运行的安全性。 | ||
搜索关键词: | 抑制 泄漏 密封 齿形 结构 | ||
【主权项】:
自抑制泄漏的密封齿形结构,其特征在于,该结构包括转子、静子及密封齿,所述的转子位于静子的下方,所述的密封齿设有数个,垂直固定于静子或转子上,密封齿与其相对应的转子或静子之间保持有间隙,各密封齿之间设有膨胀控室。
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