[实用新型]鳍式双极结型晶体管有效
申请号: | 201220499149.5 | 申请日: | 2012-09-27 |
公开(公告)号: | CN202816952U | 公开(公告)日: | 2013-03-20 |
发明(设计)人: | 夏维;陈向东 | 申请(专利权)人: | 美国博通公司 |
主分类号: | H01L29/73 | 分类号: | H01L29/73;H01L29/41 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 田喜庆 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本实用新型提供了一种鳍式双极结型晶体管。根据一示例性实施方式,鳍式双极结型晶体管(BJT)包括宽集电极,其位于半导体衬底中。鳍式基极被置于宽集电极上方。此外,鳍式发射极和外延发射极被置于鳍式基极上方。鳍式BJT的窄基极-发射极结通过鳍式基极和鳍式发射极形成,以及外延发射极为鳍式BJT提供增强的电流传导性和减小的电阻。外延发射极可外延形成在鳍式发射极上,且可包括多晶硅。此外,鳍式基极和鳍式发射极各自可包括单晶硅。本实用新型提供了一种具有相比常规BJT改善后的性能的BJT,且该BJT的制造能与CMOS工艺结合。 | ||
搜索关键词: | 鳍式双极结型 晶体管 | ||
【主权项】:
一种鳍式双极结型晶体管,包括:宽集电极,其位于半导体衬底中;鳍式基极,其被置于所述宽集电极上方;鳍式发射极和外延发射极,其被置于所述鳍式基极上方;其中,所述鳍式双极结型晶体管的窄基极‑发射极结通过所述鳍式基极和所述鳍式发射极形成,且其中,所述外延发射极为所述鳍式双极结型晶体管提供增强的电流传导性。
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