[实用新型]一种提供浸没式光刻机扫描路径的工作结构有效
| 申请号： | 201220510663.4 | 申请日： | 2012-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN202975590U | 公开（公告）日： | 2013-06-05 |
| 发明（设计）人： | 蔡恩静 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 竺路玲 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种提供浸没式光刻机扫描路径的工作结构，包括：一硅片，所述硅片置于浸没式光刻机的曝光镜头下方，其特征在于，所述硅片包括多个晶圆，所述多个晶圆还包括底部抗反射层和光刻胶；所述多个晶圆包括中心扫描路径区域的晶圆和外围扫描路径区域的晶圆，所述中心扫描路径区域和所述外围扫描路径区域均为螺旋扫描路径结构。本实用新型将待曝光的硅片中的晶圆分为两个区域，并且该两个区域为螺旋扫描工作路径结构，以确保硅片的绝大部分位置免受particles影响，以达到曝光质量从而提升产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提供 浸没 光刻 扫描 路径 工作 结构 | ||
【主权项】：
一种提供浸没式光刻机扫描路径的工作结构，包括：硅片，所述硅片置于浸没式光刻机的曝光镜头下方，其特征在于，所述硅片包括多个晶圆，所述多个晶圆还包括底部抗反射层和光刻胶；所述多个晶圆包括中心扫描路径区域的晶圆和外围扫描路径区域的晶圆，所述中心扫描路径区域和所述外围扫描路径区域均为螺旋扫描路径结构。
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