[实用新型]一种镀膜设备有效
| 申请号： | 201220510671.9 | 申请日： | 2012-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN203034099U | 公开（公告）日： | 2013-07-03 |
| 发明（设计）人： | 金井升;黄纪德;许佳平;王单单;蒋方丹 | 申请（专利权）人： | 上饶光电高科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C28/04 | 分类号： | C23C28/04;H01L31/18 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 王宝筠 |
| 地址： | 334100 江西省*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种镀膜设备，在该设备中可形成氧化层和氮化层的叠层，且所述氧化层为低温氧化层，该设备包括：反应腔室；与该反应腔室相连的气体管路，该气体管路连接氧化性气体源，该气体管路为在常规镀膜设备上新增的气体管路。本实用新型实施例通过在镀膜设备中引入氧化性气体管路，可以在此种镀膜设备中形成氧化层和氮化层的叠层结构，进一步提高减反射膜的钝化作用，从而提高太阳能电池的转化效率；并且将氧化层和氮化层的制作过程集成在一个镀膜设备中，此种镀膜设备避免在叠层结构制作过程中增加额外设备成本，简化了制作工艺，方便投入大规模生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 镀膜 设备 | ||
【主权项】：
一种镀膜设备，其特征在于，在该设备中可形成氧化层和氮化层的叠层，且所述氧化层为低温氧化层，该设备包括： 反应腔室； 与该反应腔室相连的气体管路，该气体管路连接氧化性气体源，该气体管路为在离子束蒸发设备、磁控溅射设备、APCVD设备、LPCVD设备或PECVD设备上新增的气体管路。
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