[实用新型]研磨垫及研磨装置有效
申请号: | 201220520445.9 | 申请日: | 2012-10-11 |
公开(公告)号: | CN202825513U | 公开(公告)日: | 2013-03-27 |
发明(设计)人: | 唐强 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
主分类号: | B24B37/26 | 分类号: | B24B37/26;B24B37/04 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种研磨垫,研磨垫的工作表面设有一中心圆形沟槽和若干围绕中心圆形沟槽设置周边圆形沟槽,中心圆形沟槽的圆心和研磨垫的圆心重合,研磨垫的工作表面还间隔设有若干由内向外发散的导流槽。中心圆形沟槽和若干围绕中心圆形沟槽设置周边圆形沟槽能够起到保留研磨液的作用,以提高研磨液利用率;而设置导流槽,一方面,可以使得研磨液快速移动,保证研磨液的新鲜度和研磨效率;另一方面,可以使得堆积于研磨垫的研磨液副产物能够快速排离研磨垫,可以避免研磨液副产物停留于研磨垫上的时间过长,避免研磨液副产物引发晶圆表面出现划伤、腐蚀、凹坑等缺陷,进而提高产品良率。本实用新型还公开了采用上述研磨垫的研磨装置。 | ||
搜索关键词: | 研磨 装置 | ||
【主权项】:
一种研磨垫,其特征在于,所述研磨垫的工作表面设有一中心圆形沟槽和若干围绕所述中心圆形沟槽设置周边圆形沟槽,所述中心圆形沟槽的圆心和所述研磨垫的圆心重合,所述研磨垫的工作表面还间隔设有若干由内向外发散的导流槽。
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