[实用新型]显影装置有效

专利信息
申请号: 201220520555.5 申请日: 2012-10-11
公开(公告)号: CN202794853U 公开(公告)日: 2013-03-13
发明(设计)人: 刘畅;郝静安 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
主分类号: G03F7/30 分类号: G03F7/30
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅;李时云
地址: 100176 北京市大兴区*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型提供一种显影装置,通过添加一气吹喷嘴,用气体对涂覆在晶圆表面中心的显影液进行吹拂,使其均匀分散在晶圆表面,让晶圆中心与边缘显影的效果一致,使冲洗出的晶圆中心和边缘的光刻胶层的开口大小相同,从而降低刻蚀出晶圆衬底的关键尺寸大小均匀性的差异,进而提高晶圆的良率。
搜索关键词: 显影 装置
【主权项】:
一种显影装置,其特征在于,包括:反应腔室;基座,固定在所述反应腔室内底部;电子卡盘,下表面固定在所述基座的顶部;显影喷嘴,悬空固定于所述电子卡盘的上空;显影管路,由所述反应腔室外伸入,并与所述显影喷嘴相连接;气吹喷嘴,悬空固定于所述电子卡盘的中心正上空;气体管路,由所述反应腔室外伸入,并与所述气吹喷嘴相连接。
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