[实用新型]用于非晶硅背面铝膜沉积的磁控溅射设备有效
| 申请号： | 201220540586.7 | 申请日： | 2012-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN202898527U | 公开（公告）日： | 2013-04-24 |
| 发明（设计）人： | 陈五奎;雷晓全;任红耀;王斌 | 申请（专利权）人： | 陕西拓日新能源科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/16 |
| 代理公司： | 北京汉昊知识产权代理事务所(普通合伙) 11370 | 代理人： | 孟海娟 |
| 地址： | 715200 陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及太阳能领域，尤其涉及用于非晶硅背面铝膜沉积的磁控溅射设备。本实用新型采取如下技术方案：用于非晶硅背面铝膜沉积的磁控溅射设备，其特征在于，包含镀膜工作室和位于其两端的抽真空传动装备，镀层工作运行轨道贯穿过抽真空传动装备和镀膜工作室，镀层工作运行轨道由一根以上平行的旋转拖轴组成，镀膜工作室对应的镀层工作运行轨道上有铝靶，镀膜工作室外部有换气管道，换气管道连接氩气管，镀膜工作室上方有高压电极，还包含可将正离子驱动向铝靶的磁场发生装置。采用如上技术方案的本实用新型，具有如下有益效果：镀膜效果好，冷却效果好，抽真空效果好。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 非晶硅 背面 沉积 磁控溅射 设备 | ||
【主权项】：
用于非晶硅背面铝膜沉积的磁控溅射设备，其特征在于，包含镀膜工作室和位于其两端的抽真空传动装备，镀层工作运行轨道（1）贯穿过抽真空传动装备和镀膜工作室，镀层工作运行轨道（1）由一根以上平行的旋转拖轴组成，镀膜工作室对应的镀层工作运行轨道（1）上有铝靶（2），镀膜工作室外部有换气管道（6），换气管道（6）连接氩气管（7），镀膜工作室上方有高压电极（3），还包含可将正离子驱动向铝靶（2）的磁场发生装置。
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