[实用新型]漏光检测基板及漏光检测装置有效
| 申请号： | 201220557945.X | 申请日： | 2012-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN202837747U | 公开（公告）日： | 2013-03-27 |
| 发明（设计）人： | 石岳 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/13 | 分类号： | G02F1/13;G02F1/1339;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 韩国胜 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种漏光检测基板及漏光检测装置，特别涉及一种对UVmask层进行漏光检测的漏光检测基板及漏光检测装置；所述漏光检测基板，用于对紫外光掩膜设备进行漏光检测，所述漏光检测基板包括：衬底基板和形成于所述衬底基板上的光致变色材料层；所述漏光检测装置，包括图案采集单元，所述图案采集单元用于获取所述漏光检测基板上的图案信息。本实用新型采用漏光检测基板的设计，利用光致变色材料层在强紫外光照射下的颜色可逆性，可有效检测出UVmask层是否存在漏光区域，并以此调整UVmask层的设计。 | ||
| 搜索关键词： | 漏光 检测 装置 | ||
【主权项】：
一种漏光检测基板，包括：衬底基板和形成于所述衬底基板上的光致变色材料层。
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