[实用新型]单晶评价样片抛光机有效
| 申请号： | 201220584760.8 | 申请日： | 2012-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN202934428U | 公开（公告）日： | 2013-05-15 |
| 发明（设计）人： | 宋玮;贺贤汉;张松江;李彬 | 申请（专利权）人： | 上海申和热磁电子有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02 |
| 代理公司： | 上海元一成知识产权代理事务所(普通合伙) 31268 | 代理人： | 赵青 |
| 地址： | 200444 上海市宝*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型单晶评价样片抛光机，包括：基座，在所述基座上设有固定杆以及设置在所述固定杆上的上定盘单元及下定盘单元；其中所述上定盘单元包括通过传送带依次连接的上定盘活动台、上定盘马达及上定盘；以及所述下定盘单元包括通过传送带依次连接的下定盘固定台、下定盘马达及下定盘。本实用新型对硅片进行单面研磨及抛光处理使硅片单面呈现平坦的镜面，可避免因药液残留及机械损伤等外因而影响OISF的评价结果。 | ||
| 搜索关键词： | 评价 样片 抛光机 | ||
【主权项】：
单晶评价样片抛光机，其特征在于，包括：基座，在所述基座上设有固定杆以及设置在所述固定杆上的上定盘单元及下定盘单元；其中所述上定盘单元包括通过传送带依次连接的上定盘活动台、上定盘马达及上定盘；以及所述下定盘单元包括通过传送带依次连接的下定盘固定台、下定盘马达及下定盘。
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