[实用新型]一种用于MOCVD设备的进料设备有效
申请号: | 201220599293.6 | 申请日: | 2012-11-14 |
公开(公告)号: | CN202954087U | 公开(公告)日: | 2013-05-29 |
发明(设计)人: | 陈文兵;刘典;邓金生;肖四哲;王钢;范冰丰;童存声 | 申请(专利权)人: | 深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司;佛山市中山大学研究院 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 深圳市康弘知识产权代理有限公司 44247 | 代理人: | 胡朝阳;孙洁敏 |
地址: | 518000 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种用于MOCVD设备的进料设备,包括进料筒、操作室和中转室,其中,所述的进料筒采用卧式柱体,前端设有进料门,侧面通过一出料门与操作室相通;所述的操作室为一密封的箱体,其正面上半部安装透明的有机玻璃,下半部安装一双与箱体密封,用于操作的长手套,其内安装有可转动的载物盘;所述的中转室为立式柱体,其与操作室和反应室之间设置有用于隔离的闸板阀。本实用新型进料设备具有独立、密封性优良的净化系统,满足各种基片的工艺需求。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 mocvd 设备 进料 | ||
【主权项】:
一种用于MOCVD设备的进料设备,包括进料筒(1)、操作室(2)和中转室(3),其特征在于:所述的进料筒(1)采用卧式柱体,其后端密封,前端设有进料门(11),侧面通过一密封的出料门(12)与操作室(2)相通,进料筒内设有托物盘(13);所述的操作室(2)为一密封的箱体,其正面上半部安装透明的有机玻璃(21),下半部安装一双与箱体密封,用于操作的长手套(22),其内安装有可转动的载物盘(23);所述的中转室(3)为立式柱体,其与操作室和反应室之间设置有用于隔离的闸板阀(31),在靠操作室一侧的后部,设有载片盘暂存区,所述的中转室内装有机械手。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的