[实用新型]水钻磨抛机的磨抛机构有效
申请号: | 201220622560.7 | 申请日: | 2012-11-22 |
公开(公告)号: | CN202894929U | 公开(公告)日: | 2013-04-24 |
发明(设计)人: | 杨朝平;杨朝岳 | 申请(专利权)人: | 瑞安市万嘉机械有限公司 |
主分类号: | B24B9/16 | 分类号: | B24B9/16 |
代理公司: | 杭州斯可睿专利事务所有限公司 33241 | 代理人: | 林元良 |
地址: | 325200 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种水钻磨抛机的磨抛机构,包括电机、研磨盘和抛光盘,其特征在于:所述研磨盘的中心和抛光盘的中心位于同一轴线上,所述研磨盘的直径比抛光盘小,所述研磨盘和抛光盘均与所述电机传动连接。这种水钻磨抛盘结构,减少了水钻磨抛机的占地空间,使得整机变得精巧,而且提高了研磨盘的线速度,减少了水钻在其上研磨时划伤的几率,提高了水钻加工后的光洁度。 | ||
搜索关键词: | 水钻 磨抛机 机构 | ||
【主权项】:
一种水钻磨抛机的磨抛机构,包括电机、研磨盘和抛光盘,其特征在于:所述研磨盘的中心和抛光盘的中心位于同一轴线上,所述研磨盘和抛光盘均与所述电机传动连接。
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