[实用新型]金属层线宽测量装置有效

专利信息
申请号: 201220637335.0 申请日: 2012-11-27
公开(公告)号: CN202903138U 公开(公告)日: 2013-04-24
发明(设计)人: 刘杰;曲泓铭;安峰;张光明;李伟;宋泳珍;郑云友;吴成龙 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号: G01B11/02 分类号: G01B11/02
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 王莹
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型公开了一种金属层线宽测量装置,包括:光发射装置,包括发射检测光信号的发光单元;光接收装置,与所述光发射装置相对设置,接收所述光发射装置发出的光信号并生成光强信号;所述光发射装置和光接收装置分别位于被测基板两侧;信号处理装置,与所述光接收装置连接,对所述光接收装置接收的光强信号进行处理,得到测量结果。本实用新型通过光发射装置和光接收装置保持同步扫描金属膜层,通过分析光发射装置和光接收装置接收到的信号强度变化,计算金属层线宽值,结构简单、使用方便、测量结果准确可靠。
搜索关键词: 金属 层线宽 测量 装置
【主权项】:
一种金属层线宽测量装置,其特征在于,包括:光发射装置,包括发射检测光信号的发光单元;光接收装置,与所述光发射装置相对设置,接收所述光发射装置发出的光信号并生成光强信号;所述光发射装置和光接收装置分别位于被测基板两侧;信号处理装置,与所述光接收装置连接,对所述光接收装置接收的光强信号进行处理,得到测量结果。
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