[实用新型]一种半导体器件有效
申请号: | 201220647148.0 | 申请日: | 2012-11-30 |
公开(公告)号: | CN203013732U | 公开(公告)日: | 2013-06-19 |
发明(设计)人: | 褚为利;朱阳军;左小珍;赵佳;田晓丽 | 申请(专利权)人: | 上海联星电子有限公司;中国科学院微电子研究所;江苏中科君芯科技有限公司 |
主分类号: | H01L29/739 | 分类号: | H01L29/739;H01L29/06 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 王宝筠 |
地址: | 200120 上海市浦东新*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种半导体器件,包括:半导体衬底;阱区,所述阱区形成于所述半导体衬底内;栅极总线,所述栅极总线形成于所述阱区的表面;第一场板,所述第一场板形成于所述半导体衬底表面且覆盖部分阱区;其中,所述第一场板与所述栅极总线电连接。本实用新型提供的半导体器件的第一场板与栅极总线电连接,使第一场板与栅极总线的电位保持一致,那么,当半导体器件承受相同的反向电压时,第一场板与半导体衬底之间的偏压差会有所增大,使得半导体表面的耗尽区进一步展宽,从而使半导体器件的反向耐压能力得到加强。 | ||
搜索关键词: | 一种 半导体器件 | ||
【主权项】:
一种半导体器件,其特征在于,包括:半导体衬底;阱区,所述阱区形成于所述半导体衬底内;栅极总线,所述栅极总线形成于所述阱区的表面;第一场板,所述第一场板形成于所述半导体衬底表面且覆盖部分阱区;其中,所述第一场板与所述栅极总线电连接。
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