[实用新型]一种对大批量圆柱体侧表面均匀真空镀膜的装置有效
| 申请号： | 201220653381.X | 申请日： | 2012-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN203007385U | 公开（公告）日： | 2013-06-19 |
| 发明（设计）人： | 万新军;李瑞丰;王志刚 | 申请（专利权）人： | 上海米开罗那机电技术有限公司;北京米开罗那机电技术有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 王敏杰 |
| 地址： | 201315 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及溅射镀膜设备，特别是一种对大批量圆柱体侧表面均匀真空镀膜的装置。它包括由驱动机构连接驱动的转鼓，该转鼓侧表面沿轴线方向开若干槽，槽的尺寸略大于被镀圆柱体的直径。它主要解决现有技术中对于大批量的圆柱体侧表面的镀膜操作中，众多圆柱体侧表面放在腔室中面对溅射源相互干涉的技术问题，达到了大批被镀圆柱体侧表面实现均匀镀膜的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 大批量 圆柱体 表面 均匀 真空镀膜 装置 | ||
【主权项】：
一种对大批量圆柱体侧表面均匀真空镀膜的装置，其特征在于：它包括由驱动机构连接驱动的转鼓（1），该转鼓（1）侧表面沿轴线方向开若干槽（2），槽（2）的尺寸略大于被镀圆柱体的直径。
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