[实用新型]一种非晶硅电池使用的p型半导体有效
申请号: | 201220659583.5 | 申请日: | 2012-12-05 |
公开(公告)号: | CN202977440U | 公开(公告)日: | 2013-06-05 |
发明(设计)人: | 高平奇;孔英;王宽冒;黄艳红;云骁健 | 申请(专利权)人: | 保定风帆光伏能源有限公司 |
主分类号: | H01L31/0376 | 分类号: | H01L31/0376;H01L31/0352 |
代理公司: | 保定市燕赵恒通知识产权代理事务所 13121 | 代理人: | 杨玉清 |
地址: | 071051 河*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种非晶硅电池使用的p型半导体,其由p+层半导体薄膜和p-层半导体薄膜构成,p+层半导体薄膜和p-层半导体薄膜均为非晶碳化硅a-SiC:H薄膜,p+层半导体薄膜的暗电导为1×10-5~5×10-5S/cm,能带隙为1.8~1.9eV,厚度为40~80Å;p-层半导体薄膜的暗电导为1×10-7~5×10-7S/cm,能带隙为2~2.1eV,厚度为30~100Å。本实用新型既能允许更多有用的光通过它进入本征吸收层i层,同时能与前电极或者前一结电池完美接触以最大限度的提升空穴的导出效率,从太阳光谱利用效率和载流子收集效率两方面进行提升以提高由该p型半导体制备的光伏电池的能量转换效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 非晶硅 电池 使用 半导体 | ||
【主权项】:
1.一种非晶硅电池使用的p型半导体,其特征在于:其由p+层半导体薄膜和p-层半导体薄膜构成,p+层半导体薄膜和p-层半导体薄膜均为非晶碳化硅a-SiC:H薄膜,p+层半导体薄膜的暗电导为1×10-5~5×10-5S/cm,能带隙为1.8~1.9eV,厚度为40~80;p-层半导体薄膜的暗电导为1×10-7~5×10-7S/cm,能带隙为2~2.1eV,厚度为30~100。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的