[实用新型]一种用于抛光工序的修整器有效
| 申请号： | 201220663399.8 | 申请日： | 2012-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN203125326U | 公开（公告）日： | 2013-08-14 |
| 发明（设计）人： | 索思卓;库黎明;闫志瑞 | 申请（专利权）人： | 有研半导体材料股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B53/12 | 分类号： | B24B53/12;B24B53/017 |
| 代理公司： | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人： | 郭佩兰 |
| 地址： | 100088 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于抛光工序的修整器，它包括：游轮环，其侧面周边开有多个平行齿口，游轮环的正面开有承载修整轮圆孔，正面还开有多个提高修整过程中液体均匀性的通孔，承载修整轮圆孔内嵌有修整轮。本实用新型的优点是：它既可以用于高效率修整盘，又可以用来修整抛光布，通过修整来达到控制硅片表面形貌的目的，使硅片达到技术参数要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 抛光 工序 修整 | ||
【主权项】：
一种用于抛光工序的修整器，其特征在于：它包括：游轮环，其侧面周边开有多个平行齿口，游轮环的正面开有承载修整轮圆孔，正面还开有多个提高修整过程中液体均匀性的通孔，修整轮圆孔内嵌入修整轮。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于有研半导体材料股份有限公司，未经有研半导体材料股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201220663399.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种具有控温功能的无电恒温冲洗盖板
- 下一篇：高温电阻炉温度区别跟踪测控系统
