[实用新型]触控电极结构有效

专利信息
申请号: 201220708966.7 申请日: 2012-12-18
公开(公告)号: CN203117930U 公开(公告)日: 2013-08-07
发明(设计)人: 刘振宇;李禄兴 申请(专利权)人: 宸鸿光电科技股份有限公司
主分类号: G06F3/041 分类号: G06F3/041
代理公司: 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 代理人: 江耀纯
地址: 中国台湾114台北*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种触控电极结构,包括:一基板,该基板界定有一感测区与一围绕于该感测区的引线区;一电极层,设置于该基板上,且该电极层分为一蚀刻区与一非蚀刻区;一第一防蚀刻光学层,设置于该电极层的非蚀刻区上;一第二防蚀刻光学层,设置于该第一防蚀刻光学层和该基板上,且该第一防蚀刻光学层与该第二防蚀刻光学层至少裸露部分位于该引线区内的该非蚀刻区的电极层;一信号引线,设置于该引线区内,且电性连接该裸露的非蚀刻区的电极层。通过调节第一防蚀刻光学层和第二防蚀刻层的折射率,可减轻蚀刻后蚀刻区和非蚀刻区存在的外观差异。
搜索关键词: 电极 结构
【主权项】:
一种触控电极结构,其特征在于,包括:一基板,该基板界定有一感测区与一围绕于该感测区的引线区;一电极层,设置于该基板上,且该电极层分为一蚀刻区与一非蚀刻区;一第一防蚀刻光学层,设置于该电极层的非蚀刻区上;一第二防蚀刻光学层,设置于该第一防蚀刻光学层和该基板上,且该第一防蚀刻光学层与该第二防蚀刻光学层至少裸露部分位于该引线区内的该非蚀刻区的电极层;一信号引线,设置于该引线区内,且电性连接该裸露的非蚀刻区的电极层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宸鸿光电科技股份有限公司,未经宸鸿光电科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201220708966.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top