[实用新型]触控电极结构有效
申请号: | 201220708966.7 | 申请日: | 2012-12-18 |
公开(公告)号: | CN203117930U | 公开(公告)日: | 2013-08-07 |
发明(设计)人: | 刘振宇;李禄兴 | 申请(专利权)人: | 宸鸿光电科技股份有限公司 |
主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041 |
代理公司: | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人: | 江耀纯 |
地址: | 中国台湾114台北*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种触控电极结构,包括:一基板,该基板界定有一感测区与一围绕于该感测区的引线区;一电极层,设置于该基板上,且该电极层分为一蚀刻区与一非蚀刻区;一第一防蚀刻光学层,设置于该电极层的非蚀刻区上;一第二防蚀刻光学层,设置于该第一防蚀刻光学层和该基板上,且该第一防蚀刻光学层与该第二防蚀刻光学层至少裸露部分位于该引线区内的该非蚀刻区的电极层;一信号引线,设置于该引线区内,且电性连接该裸露的非蚀刻区的电极层。通过调节第一防蚀刻光学层和第二防蚀刻层的折射率,可减轻蚀刻后蚀刻区和非蚀刻区存在的外观差异。 | ||
搜索关键词: | 电极 结构 | ||
【主权项】:
一种触控电极结构,其特征在于,包括:一基板,该基板界定有一感测区与一围绕于该感测区的引线区;一电极层,设置于该基板上,且该电极层分为一蚀刻区与一非蚀刻区;一第一防蚀刻光学层,设置于该电极层的非蚀刻区上;一第二防蚀刻光学层,设置于该第一防蚀刻光学层和该基板上,且该第一防蚀刻光学层与该第二防蚀刻光学层至少裸露部分位于该引线区内的该非蚀刻区的电极层;一信号引线,设置于该引线区内,且电性连接该裸露的非蚀刻区的电极层。
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