[实用新型]基于全反射原理的光学元件激光预处理装置有效

专利信息
申请号: 201220718469.5 申请日: 2012-12-24
公开(公告)号: CN203062085U 公开(公告)日: 2013-07-17
发明(设计)人: 吴周令;陈坚;吴令奇 申请(专利权)人: 合肥知常光电科技有限公司
主分类号: B23K26/00 分类号: B23K26/00;B23K26/06;B23K26/42
代理公司: 合肥天明专利事务所 34115 代理人: 金凯
地址: 230031 安徽省合肥市高新*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 实用新型公开了一种基于全反射原理的光学元件激光预处理装置,具体是将激光光束从透明光学元件的一侧面入射到透明光学元件内部并照射到透明光学元件前表面的处理点1,在处理点1处,激光光束的入射角度满足光学全反射条件,经由全反射反射至元件后表面的处理点2处,依此类推,激光光束在元件内部前后表面之间进行多次全反射,直至最后从透明光学元件另一侧面出射。本实用新型利用激光光束在透明光学元件样品内部进行多次全反射来回收激光能量并重复利用,并且同时对光学元件前亚表面、后亚表面、前后表面以及体内特性进行并行处理,从而大幅提高激光预处理的速度。
搜索关键词: 基于 全反射 原理 光学 元件 激光 预处理 装置
【主权项】:
基于全反射原理的光学元件激光预处理装置,包括有激光光源,其特征在于:还包括有依次设置于激光光源的后端和透明光学元件一侧面之间的激光能量调整控制装置、激光光束整形处理装置、激光光束分光楔板光束角度调整装置,激光光束分光楔板的第一反射输出端后设置有CCD成像装置,其第二反射输出端后设置有分光装置,分光装置的两分光输出端后分别设置有光电探测器和激光能量测量装置。
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