[实用新型]一种腔体耦合器介质定位装置有效
申请号: | 201220742875.5 | 申请日: | 2012-12-29 |
公开(公告)号: | CN203026631U | 公开(公告)日: | 2013-06-26 |
发明(设计)人: | 王多敏 | 申请(专利权)人: | 合肥威科电子技术有限公司 |
主分类号: | H01P5/18 | 分类号: | H01P5/18 |
代理公司: | 合肥天明专利事务所 34115 | 代理人: | 金凯 |
地址: | 230088 安徽省合肥*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种腔体耦合器介质定位装置,它是固定于腔体耦合器的腔体内壁上的定位装置,定位装置的一端面上设置有两个导带卡槽,两个导带卡槽之间的距离为腔体内两个导带之间的定位距离。本实用新型定位装置上的两导带卡槽之间的距离保证了两导带之间的水平距离,导带卡槽的深度保证了两导带的设置高度且保证两导带位于同一高度,由于导带卡设于导带卡槽内,耦合器成品在多次测量或多次振荡跌落的过程中,导带的位置也不会发生偏移,保证了腔体耦合器的耦合度及耦合平坦度,提高了耦合器的方向性,改善了驻波比,同时由于该定位装置尺寸加工的一致性,所以装配完成后成品率提高,可以做到免调试,减少了生产成本,提高了生产效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 耦合器 介质 定位 装置 | ||
【主权项】:
一种腔体耦合器介质定位装置,其特征在于:它是固定于腔体耦合器的腔体内壁上的定位装置,所述的定位装置的一端面上设置有两个导带卡槽,两个导带卡槽之间的距离为腔体内两个导带之间的定位距离。
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