[发明专利]正电子放射断层摄影系统、重构装置及距离比决定方法有效
| 申请号： | 201280001742.5 | 申请日： | 2012-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN103108591A | 公开（公告）日： | 2013-05-15 |
| 发明（设计）人： | 叶宏伟;王文莉 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝;东芝医疗系统株式会社 |
| 主分类号： | A61B6/03 | 分类号： | A61B6/03 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 杨谦;胡建新 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在实施方式的正电子放射断层摄影系统中，决定部在系统的X-Y平面内，决定将2个结晶(10)各自的左端点连结的第一边缘线、将2个结晶各自的右端点连结的第二边缘线、以及与符合计数管(25)有关的基准线(50)。投影部将体素(40)的第一面的第一中心点(56)投影到基准线(50)上来决定第一投影点(65)，将体素的第二面的第二中心点(56)投影到基准线(50)上来决定第二(65)投影点。计算部计算包含第一边缘线在内的直线与基准线(50)之间的交点及包含第二边缘线在内的直线与基准线(50)之间的交点中的某一方与第一投影点之间的第一距离、该一方的交点与第二投影点之间的第二距离。距离比决定部基于第一及第二距离，决定X-Y平面中的第一距离比。 | ||
| 搜索关键词： | 正电子 放射 断层 摄影 系统 装置 距离 决定 方法 | ||
【主权项】：
一种正电子放射断层摄影系统，决定距离比，该距离比用于计算在正电子放射断层摄影系统的重构空间内由2个结晶规定的符合计数管与体素之间的几何概率，该正电子放射断层摄影系统具备：决定部，在所述正电子放射断层摄影系统的X‑Y平面内，决定将所述2个结晶各自的左端点连结的第一边缘线、将所述2个结晶各自的右端点连结的第二边缘线、及与所述符合计数管有关的基准线；投影部，在所述X‑Y平面内，将所述体素的第一面的第一中心点投影到所述基准线上来规定第一投影点，将所述体素的第二面的第二中心点投影到所述基准线上来规定第二投影点；计算部，计算包含所述第一边缘线在内的直线与所述基准线之间的交点及包含所述第二边缘线在内的直线与所述基准线之间的交点中的某一方的交点与所述第一投影点之间的第一距离、以及所述一方的交点与所述第二投影点之间的第二距离；以及距离比决定部，基于所述第一距离及所述第二距离，决定所述X‑Y平面内的第一距离比。
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