[发明专利]成膜方法和成膜装置有效
| 申请号： | 201280003215.8 | 申请日： | 2012-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN103154298A | 公开（公告）日： | 2013-06-12 |
| 发明（设计）人： | 盐野一郎;林达也;姜友松;长江亦周;宫内充祐;佐守真悟 | 申请（专利权）人： | 株式会社新柯隆 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02;C23C14/22 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 丁香兰;孟伟青 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供可有效地进行防污膜的成膜的成膜装置，该防污膜的耐磨耗性能不但可耐实用而且耐磨耗性能也进一步得到提高。本发明的成膜装置(1)为将具有用于保持两个以上基板(14)的基体保持面的基板支架(12)可旋转地配设在真空容器(10)内的成膜装置(1)，其中，该成膜装置(1)是具有离子源(38)以及作为成膜单元的蒸镀源(34)和限制板(36)的构成，所述离子源(38)按照可向着上述基体保持面的一部分区域照射离子束这样的构成、配置和/或朝向被设置在真空容器(10)内，所述作为成膜单元的蒸镀源(34)和限制板(36)按照可向着作为上述基体保持面的一部分且与基于离子源(38)的离子束的照射区域的至少一部分重复的区域来供给成膜材料这样的构成被设置在真空容器(10)内。 | ||
| 搜索关键词： | 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种成膜方法，其为在对基体的表面进行清洁后在该基体的清洁面进行薄膜的成膜的方法，其特征在于，在该成膜方法中，通过向着基体保持单元的基体保持面的一部分区域照射能量粒子，使所述能量粒子仅与保持于所述基体保持面上并进行旋转的两个以上基体中的移动到了所述区域的特定基体组接触，由此来清洁所述基体的表面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社新柯隆，未经株式会社新柯隆许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201280003215.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种从焦化废水中回收氨及合成气的方法
- 下一篇：一种免跳纤光缆交接箱
- 同类专利
- 专利分类
