[发明专利]半导体装置及其制造方法有效
| 申请号： | 201280003499.0 | 申请日： | 2012-10-01 |
| 公开（公告）号： | CN103201834A | 公开（公告）日： | 2013-07-10 |
| 发明（设计）人： | 生田敬子;金连姬;广濑贵之;小岛俊之;塚原法人;反田耕一 | 申请（专利权）人： | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号： | H01L23/36 | 分类号： | H01L23/36;C25D7/00;H01L23/48 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 邱忠贶 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种能抑制热阻的增加，并能减小施加到焊料层的热阻的半导体装置。其配置结构具有：半导体元件（5）；焊料层（4），该焊料层（4）配置在半导体元件的至少一个面上；以及引线框（2），该引线框（2）以夹着多孔镀镍部（1）的方式配置在该焊料层上。与直接接合半导体元件与引线框的情况相比，能将焊料接合部的热阻的增加量抑制为仅与多孔镀镍部分相对应的量，能降低施加到焊料层的热阻。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种半导体装置，其特征在于，包括：半导体元件；焊料层，该焊料层配置在所述半导体元件的至少一个面上；以及引线框，该引线框以夹着多孔镀镍部的方式配置在所述焊料层上。
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