[发明专利]制造、运输及储存过程中保护IC晶圆的包装系统有效
申请号: | 201280005580.2 | 申请日: | 2012-01-18 |
公开(公告)号: | CN103314433A | 公开(公告)日: | 2013-09-18 |
发明(设计)人: | 雷·G·布鲁克斯;蒂莫西·韦恩·布鲁克斯 | 申请(专利权)人: | 雷·G·布鲁克斯;蒂莫西·韦恩·布鲁克斯 |
主分类号: | H01L21/673 | 分类号: | H01L21/673 |
代理公司: | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人: | 张静洁;张妍 |
地址: | 美国得克萨斯*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 包装系统包含一个包装件(20,30),其有内部容纳空间。一个晶圆堆(26)位于内部容纳腔中,包含若干个晶圆(25)及与晶圆接触的分隔层(27)。分隔片的每一侧上都有伸出的凸起(27a,27b)。这些凸起形成空间(28b)允许空气在其中流动。分隔层薄膜拦截和捕获空气分子污染物,这种空气污染物可以是有机物和无机物。此外,薄膜是静电放电耗散的。另外,分隔层上的凸起保护易碎的晶圆不受机械冲击破坏。分隔层上有圆环(27c)或凸起与晶圆边缘接触,进一步保护晶圆不受机械冲击破坏。在晶圆堆上有空气缓冲垫(23),这些缓冲垫外侧有绑带(41),用来控制压缩过程。 | ||
搜索关键词: | 制造 运输 储存 过程 保护 ic 包装 系统 | ||
【主权项】:
一种包装系统,其特征在于,用于在生产、运输及储存阶段,拦截和捕获机械冲击能及腐蚀性污染物,从而保护集成电路晶圆,该些晶圆的表面上有例如焊点、焊珠等特征,对由于腐蚀、机械冲击或电子静电放电引起的损坏敏感,该系统包含:a)一个包装件,其有一个内部容纳腔;b)一个晶圆堆,其位于内部容纳腔中,该晶圆堆包含若干个晶圆及与晶圆接触的分隔层,该分隔层为薄片,每片有两个面,分隔片的每一侧上都有伸出的凸起,该些凸起在对应的分隔层及对应的晶圆之间形成空间,在这个空间中,可允许空气在其中流动;c)至少一个分隔层采用聚合物薄膜材料制作,有拦截和捕获空气分子污染物的性能,该种空气污染物可以是有机物或无机物,或者两者都有,因为所述材料是静电放电耗散的。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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