[发明专利]镀覆预处理溶液及使用所述镀覆预处理溶液制造硬盘设备用的铝衬底的方法有效
| 申请号： | 201280006415.9 | 申请日： | 2012-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN103403223A | 公开（公告）日： | 2013-11-20 |
| 发明（设计）人： | 迎展彰;吉田隆广 | 申请（专利权）人： | 东洋钢钣株式会社 |
| 主分类号： | C23C18/18 | 分类号： | C23C18/18;C23C18/36 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 武晶晶;郑霞 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的是提供：一种镀覆预处理溶液，所述镀覆预处理溶液能够使用于硬盘设备的铝衬底的表面转变成适用于化学镀镍的表面；及一种使用镀覆预处理溶液来制造用于硬盘设备的铝衬底的方法。在用于硬盘设备的铝衬底的制造中用于镀覆预处理的本发明的镀覆预处理溶液具有0.1g/l-1.0g/l的浓度的铁离子和2.0wt%-12.0wt%的浓度的硝酸。这种镀覆预处理溶液被用于镀覆步骤的预处理，在所述镀覆步骤中，用于硬盘设备的铝衬底经历化学镀镍。因此，使用于硬盘设备的铝衬底的表面转变成适合用于化学镀Ni的表面，且当在镀覆步骤中进行化学镀镍时，通过抑制镀覆的表面上的波纹、结节及凹坑的产生，可以得到平滑的镀覆膜的表面。 | ||
| 搜索关键词： | 镀覆 预处理 溶液 使用 制造 硬盘 备用 衬底 方法 | ||
【主权项】：
一种用于在制造硬盘设备用的铝衬底中的镀覆预处理中使用的镀覆预处理溶液，所述溶液包含0.1g/l‑1.0g/l的浓度的铁离子和2.0wt%‑12.0wt%的浓度的硝酸。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法，例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法，例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀，即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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