[发明专利]具有位错弯曲结构的发光装置有效
| 申请号： | 201280013116.8 | 申请日： | 2012-02-11 |
| 公开（公告）号： | CN103597618A | 公开（公告）日： | 2014-02-19 |
| 发明（设计）人： | R·格斯卡;杨锦伟;M·舒尔 | 申请（专利权）人： | 传感器电子技术股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/02 | 分类号： | H01L33/02 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 袁玥 |
| 地址： | 美国南*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于减少发射装置的有源区中的位错的数目的解决方案。位错弯曲结构可包括于该发射装置中介于衬底与有源区之间。该位错弯曲结构可被配置以例如归因于足够量的应变的存在而在位错到达该有源区之前使位错弯曲和/或消灭。该位错弯曲结构可包括多个层，而相邻层由一材料构成，但相应材料中的元素的摩尔分数在两层之间存在差异。该位错弯曲结构可包括至少40对相邻层，在相邻层之间元素的摩尔分数相差至少百分之五。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 弯曲 结构 发光 装置 | ||
【主权项】：
一种发射装置，其包含：衬底；有源区，其位于该衬底的第一侧；及位错弯曲结构，其位于该衬底与该有源区之间，其中该位错弯曲结构包含至少四十对相邻层，其中每一对相邻层包括：第一层，其由包括一元素的材料构成；及第二层，其由包括该元素的材料构成，其中对于该第一层及该第二层，该元素的摩尔分数相差至少百分之五。
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