[发明专利]烧结体及其制造方法有效
| 申请号： | 201280013490.8 | 申请日： | 2012-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN103459655A | 公开（公告）日： | 2013-12-18 |
| 发明（设计）人： | 笘井重和;松崎滋夫;矢野公规;安藤诚人;江端一晃;糸濑将之 | 申请（专利权）人： | 出光兴产株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C04B35/00;H01L21/363 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 蒋亭 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的烧结体是至少含有氧化铟及氧化镓的烧结体，其中，体积为14000μm3以上的空隙的空隙率为0.03体积％以下。 | ||
| 搜索关键词： | 烧结 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种烧结体，其是至少含有氧化铟及氧化镓的烧结体，其中，体积为14000μm3以上的空隙的空隙率为0.03体积％以下。
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