[发明专利]用于在低pO2气氛中可获得的陶瓷装置的烧结添加剂无效
| 申请号： | 201280014872.2 | 申请日： | 2012-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN103460479A | 公开（公告）日： | 2013-12-18 |
| 发明（设计）人： | S.拉莫斯塞;T.克勒门索;H.P.拉森 | 申请（专利权）人： | 丹麦技术大学 |
| 主分类号： | H01M8/12 | 分类号： | H01M8/12;H01M4/88;C04B35/462;C04B35/486;C04B35/50;C04B35/44;C04B35/64;B01D53/22;B01D69/12;B01D71/02;B01D67/00;C23C28/00;C01B13/02 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 赵胜宝;李进 |
| 地址： | 丹麦*** | 国省代码： | 丹麦;DK |
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| 摘要： | 本发明提供在低pO2气氛中生产陶瓷装置的方法，其包括以下步骤：-提供包含基底材料和过渡金属的组合物，其中用于第一层的基底材料选自锆酸盐、铈酸盐、钛酸盐、镧酸盐、铝酸盐、掺杂氧化锆和/或掺杂二氧化铈，其中掺杂物选自Ca、Ga、Sc、Y，和镧系元素；-形成所述组合物的第一层，其中所述第一层为电解质层；-在所述第一层的一面或两面上形成至少一个电极层或电极前体层；和-在低pO2气氛中烧结多层结构；其特征在于：-过渡金属的量为基于第一层的组合物计的0.01-4mol%；-氧气分压pO2为10-14Pa或更少；和-烧结温度在700-1600℃范围内。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 po sub 气氛 可获得 陶瓷 装置 烧结 添加剂 | ||
【主权项】：
一种在低pO2气氛中生产陶瓷装置的方法，该方法包括以下步骤：‑ 提供包含基底材料和过渡金属的组合物，其中用于第一层的基底材料选自锆酸盐、铈酸盐、钛酸盐、镧酸盐、铝酸盐、掺杂氧化锆和/或掺杂二氧化铈，其中掺杂物选自Ca、Ga、Sc、Y，和镧系元素；‑ 形成所述组合物的第一层，其中所述第一层为电解质层；‑ 在所述第一层的一面或两面上形成至少一个电极层或电极前体层；和‑ 在低pO2气氛中烧结多层结构；其特征在于‑ 过渡金属的量为基于第一层的组合物计的0.01‑4 mol%；‑ 氧气分压pO2为10‑14 Pa或更少；和‑ 烧结温度在700‑1600℃范围内。
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