[发明专利]用于设备制造的可曝光成像和可显影的倍半硅氧烷树脂有效
| 申请号： | 201280015369.9 | 申请日： | 2012-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN103460135B | 公开（公告）日： | 2017-03-01 |
| 发明（设计）人： | P-F·傅;埃里克·S·莫耶;杰森·苏何尔 | 申请（专利权）人： | 道康宁公司 |
| 主分类号： | G03F7/075 | 分类号： | G03F7/075 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司11262 | 代理人： | 高瑜,郑霞 |
| 地址： | 美国密*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种可涂覆型树脂溶液，其当涂敷到基底的所述表面时能够形成涂层，所述涂层在暴露于紫外线辐射时能够曝光成像并显影为介电材料。所述树脂溶液包含倍半硅氧烷基（SSQ基）树脂、至少一种引发剂以及有机溶剂。所述SSQ基树脂包含氢化物组分以及至少一种可光固化组分。所述得到的涂层具有小于或等于约3.5的介电常数。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 设备 制造 曝光 成像 显影 倍半硅氧烷 树脂 | ||
【主权项】：
一种用于在基底上形成涂层的可涂覆型树脂溶液，所述树脂溶液包含：包含氢化物组分和至少一种可光固化组分的倍半硅氧烷基树脂，所述氢化物组分通过‑(HSiO3/2)‑单元来表征；所述可光固化组分通过‑(R1SiO3/2)‑单元来表征，其中R1为有机可光固化基团；至少一种引发剂，所述引发剂选自自由基引发剂、阳离子引发剂以及它们的组合或混合物的组；以及有机溶剂；其中所述树脂溶液当施加到所述基底的表面时能够形成涂层，所述涂层在暴露于紫外线辐射时能够曝光成像并显影为介电材料；其中所述倍半硅氧烷基树脂不另外包含通过‑(R2SiO3/2)‑单元表征的有机硅氧烷组分，其中R2为有机基团。
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