[发明专利]处理装置有效
| 申请号： | 201280015592.3 | 申请日： | 2012-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN103477721A | 公开（公告）日： | 2013-12-25 |
| 发明（设计）人： | 长田智明;长谷川雅己 | 申请（专利权）人： | 佳能安内华股份有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;C23C16/507;H01L21/205;H01L21/3065;H01L21/683 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 王诣然 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供对生产率的提高有利的技术。处理装置具备：在对基板进行处理的处理空间中支撑所述基板的基板支撑部；包含具有开口部的顶盖部并将所述处理空间从外部空间分隔的第1分隔构件；和第2分隔构件，其被安装于所述第1分隔构件，以便闭塞所述开口部并与所述第1分隔构件一起从所述外部空间分隔出所述处理空间。所述第2分隔构件被安装于所述第1分隔构件，以便能够通过使所述第2分隔构件朝向所述顶盖部的下表面所面向的空间移动，从而使所述第2分隔构件从所述第1分隔构件取下。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种处理装置，其对基板进行处理，其特征在于，所述处理装置具备：基板支撑部，其在对基板进行处理的处理空间中支撑所述基板；第1分隔构件，其包括具有开口部的顶盖部并且使所述处理空间从外部空间分隔开；和第2分隔构件，其被安装于所述第1分隔构件，以便闭塞开口部并且与所述第1分隔构件一起使所述处理空间从所述外部空间分隔开；第2分隔构件，其被安装于所述第1分隔构件，以便通过使所述第2分隔构件朝向所述顶盖部的下表面所面向的空间移动，从而将所述第2分隔构件从所述第1分隔构件取下。
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