[发明专利]用于键合两个晶片的方法和装置有效

专利信息
申请号: 201280015662.5 申请日: 2012-03-30
公开(公告)号: CN103582940B 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 埃里希·塔尔纳 申请(专利权)人: 埃里希·塔尔纳
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/762
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司72001 代理人: 张涛,胡莉莉
地址: 奥地利圣*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种用于在两个晶片(2,3)的连接面V处键合所述两个晶片(2,3)的装置,其中设置具有压力面(D)的压力传输装置,所述压力面D用于以压力面(D)处的键合压力来加载晶片(2,3),其特征在于,所述压力面D比所述连接面V更小。此外,本发明涉及一种用于在两个晶片(2,3)的连接面(V)处键合所述两个晶片(2,3)的方法,其中通过具有用于对晶片(2,3)加载的压力面(D)的压力传输装置(1)相继在所述连接面(V)的子片段上施加键合力。
搜索关键词: 用于 两个 晶片 方法 装置
【主权项】:
用于键合第一和第二晶片(2,3)的装置,该键合使得所述第一和第二晶片通过所述第一晶片(3)的一个或多个结构(5)以及所述第二晶片(2)的一个或多个结构(5')在所述结构(5,5')的位于第一和第二晶片(2,3)之间的连接面V处连接在一起,其中所述第一和第二晶片(2,3)分别具有第一面和第二面,其中所述第一晶片(3)的所述结构(5)在所述第一晶片(3)的第一面上,并且所述第二晶片(2)的所述结构(5')在所述第二晶片(2)的第二面上,所述装置包括:用于容纳所述第一晶片(3)的容纳体(4),所述第一晶片(3)的第二面朝向所述容纳体(4),压力传输装置(1),其具有接触所述第二晶片(2)的第一面以便向所述第一和第二晶片(2,3)施加键合压力的压力面D,所述压力面D的面积小于形成所述连接面V的所述结构(5,5')的表面总面积,其中所述第二晶片(2)的第二面朝向所述第一晶片(3)的第一面,和用于将所述压力面D相继与所述第二晶片(2)的第一面的多个子片段接触的装置,由此在所述连接面V的多个子片段处分别施加所述键合压力,其中至少部分地以超声波加载所述压力面D,并且所述压力面D将所述超声波传递给所述连接面V,其中所述压力面D是楔形的。
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