[发明专利]阻气层叠体、其制造方法、电子装置用部件及电子装置有效
| 申请号： | 201280015793.3 | 申请日： | 2012-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN103534084A | 公开（公告）日： | 2014-01-22 |
| 发明（设计）人： | 永绳智史 | 申请（专利权）人： | 琳得科株式会社 |
| 主分类号： | B32B9/00 | 分类号： | B32B9/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 蔡晓菡;孟慧岚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供与以往的无机膜成膜相比可以廉价地制造、并且无需繁杂的制造工序、容易地具有优异的阻气性和挠性的阻气层叠体、其制造方法、包含该阻气层叠体的电子装置用部件、以及具备该电子装置用部件的电子装置。阻气层叠体，其为在基材上具有阻气层的阻气层叠体，其特征在于，所述阻气层为向有机硅化合物薄膜注入离子而得到的，所述有机硅化合物薄膜通过使用有机硅化合物作为原料的CVD法形成，该阻气层叠体的制造方法、包含所述阻气层叠体的电子装置用部件、以及具备该电子装置用部件的电子装置。 | ||
| 搜索关键词： | 层叠 制造 方法 电子 装置 部件 | ||
【主权项】：
阻气层叠体，其为在基材上具有阻气层的阻气层叠体，其特征在于，所述阻气层为向有机硅化合物薄膜注入离子而得到的，所述有机硅化合物薄膜通过使用有机硅化合物作为成膜原料的CVD法形成。
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