[发明专利]膜表面处理方法及装置有效
| 申请号： | 201280015839.1 | 申请日： | 2012-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN103459476A | 公开（公告）日： | 2013-12-18 |
| 发明（设计）人： | 长谷川平;松崎纯一 | 申请（专利权）人： | 积水化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C08J7/00 | 分类号： | C08J7/00;C08J7/18 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 蒋亭 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种提高PMMA膜的胶粘强度的膜表面处理方法。在该膜表面处理方法中，将含有丙烯酸的第一反应气体从第一反应气体喷嘴(23)中吹出而与PMMA膜接触(第一接触工序)。然后，在第一辊电极(11)与第二辊电极(12)之间的间隙(14)中，向PMMA膜照射氩等离子体(第一照射工序)。然后，将含有丙烯酸的第二反应气体从第二反应气体喷嘴(43)中吹出而与PMMA膜接触(第二接触工序)。然后，在第二辊电极(12)与第三辊电极(13)之间的间隙(15)中，向PMMA膜照射氩等离子体(第二照射工序)。 | ||
| 搜索关键词： | 表面 处理 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种膜表面处理方法，其特征在于，是对以聚甲基丙烯酸甲酯作为主成分的树脂膜即“PMMA膜”的表面进行处理的膜表面处理方法；所述膜表面处理方法包括：第一接触工序，使将丙烯酸在载气中气化而成的第一反应气体与PMMA膜接触，第一照射工序，在所述第一接触工序后或与所述第一接触工序并行地，对所述PMMA膜照射在大气压附近下生成的氩等离子体，第二接触工序，在所述第一照射工序后使将丙烯酸在载气中气化而成的第二反应气体与所述PMMA膜接触，以及第二照射工序，在所述第二接触工序后或与所述第二接触工序并行地，对所述PMMA膜照射在大气压附近下生成的氩等离子体。
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