[发明专利]具有激光器液滴等离子体照射器的光学成像系统有效
申请号: | 201280016263.0 | 申请日: | 2012-01-30 |
公开(公告)号: | CN103460366B | 公开(公告)日: | 2016-11-02 |
发明(设计)人: | 理查德·W·索拉兹;斯特凡·P·杜兰特;秀辉·黄 | 申请(专利权)人: | 科磊股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 张世俊 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种晶片检查系统包含激光器液滴等离子体LDP光源,所述激光器液滴等离子体光源以充分的辐射率产生光以使得能够以低至40纳米的波长进行明亮场检查。由所述LDP源产生的光被引导到所述晶片,且来自被照射的晶片的光被具有全反射元件的高NA物镜收集。检测器检测所述所收集光以供进一步的图像处理。所述LDP源包含液滴产生器,所述液滴产生器分配进料的液滴。由激光器产生的激发光聚焦在所述进料的液滴上。所述激发光与所述液滴的相互作用产生等离子体,所述等离子体在从40纳米到200纳米的频谱范围内以至少10W/mm2‑sr的辐射率发射照射光。 | ||
搜索关键词: | 具有 激光器 等离子体 照射 光学 成像 系统 | ||
【主权项】:
一种用于半导体晶片检查的设备,其包括:光源,其包括:液滴产生器,其分配进料的一连串液滴;以及激光器,其产生激发光,所述激发光被引导到所述进料的液滴,其中所述激发光与所述进料的所述液滴的相互作用致使所述液滴离子化,从而形成发射照射光的等离子体,其中所述照射光包括在40纳米到55纳米的频谱区域内具有至少10W/mm2‑sr的辐射率的光,且其中所述照射光可用于照射样品。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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