[发明专利]具有聚焦偏转结构板的微分相位对比成像有效
| 申请号： | 201280017003.5 | 申请日： | 2012-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN103460301B | 公开（公告）日： | 2017-08-11 |
| 发明（设计）人： | E·勒斯尔;T·克勒 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G21K1/06 | 分类号： | G21K1/06 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人： | 王英,刘炳胜 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及X射线微分相位对比成像，尤其涉及用于X射线微分相位对比成像的偏转装置。为了提供剂量效率得到提高的微分相位对比成像，提供了一种用于X射线微分相位对比成像的偏转装置（28），包括偏转结构（41），其具有第一多个（44）第一区域（46）和第二多个（48）第二区域（50）。提供所述第一区域以改变X射线辐射的相位和/或振幅；并且其中，所述第二区域是X射线透明的。周期性地布置第一和第二区域，使得在横截面中，所述偏转结构具备布置为使得以形成于作为凸起（56）提供的第一区域之间的槽状凹部（54）的形式来提供所述第二区域的剖面。相邻凸起形成部分包封布置于其间的相应凹部的相应侧表面（58)。每个凹部的侧表面都在所述凹部的整个深度（62）上具有变化的距离（60）。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 聚焦 偏转 结构 微分 相位 对比 成像 | ||
【主权项】：
一种被配置为用于X射线微分相位对比成像的相位光栅的偏转装置(28)，包括偏转结构(41)，所述偏转结构具有：‑多个第一区域(46)；以及‑多个第二区域(50)；其中，提供所述第一区域以改变X射线辐射的相位和振幅；并且其中，所述第二区域是X射线透明的；其中，周期性地布置所述第一区域和所述第二区域，使得在横截面中，所述偏转结构具备布置为使得以形成于作为凸起(56)提供的第一区域之间的槽状凹部(54)的形式来提供所述第二区域的剖面；其中，相邻的凸起形成部分包封在其间布置的相应凹部的相应侧表面(58)；其中，每个凹部的所述侧表面在跨所述凹部的深度(62)上具有变化的距离(60)；并且其中，所述偏转结构的每个周期适于充当微透镜结构(70)，所述微透镜结构对X射线辐射进行聚焦，使得在距所述微透镜结构的一定距离处获得强度最大值。
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