[发明专利]选择性FAK抑制剂

摘要

一种用作FAK抑制剂的式(I)的化合物，其中R¹或R²为环胺基且R⁵为具有含羰基取代基的芳族基团。

主权项

1.一种式(I)的化合物：其中：R¹选自：H和其中：R^N1选自H、C_1-3烷基和C(=O)Me；R^N2选自H、C_1-3烷基和C(=O)Me；R^N3选自H、C_1-3烷基和C(=O)Me；R^N4选自H和CH₃；R²选自H和其中：R^N5选自H、C_1-3烷基和C(=O)Me；R^N6选自H、C_1-3烷基和C(=O)Me；并且其中R¹和R²中仅一个为H；R³选自O-C_1-2烷基、C_1-2烷基、卤素、氰基，其中所述C_1-2烷基可被一个或多个氟基团取代；R⁴选自CF₃、卤素、CF₂H和CN；且R⁵选自下式的组中：其中：R⁶选自H、(CHR^C1)_n1C(O)N(R^N6)Z¹和(CH₂)_n2C(O)OZ²；其中：n1为1；R^C1为H或Me；R^N6为H或CH₃；Z¹为H、CH₃或OCH₃；n2为1；且Z²为CH₃；并且其中R^N6和Z¹中仅一个可以是CH₃，R⁷选自H和(CH₂)_m1C(O)N(R^M1)Y¹，其中：m1为0或1；R^M1为H；且Y¹为H、Me或OCH₃；并且R⁶和R⁷中仅一个为H；且R⁸为H，或当R⁷为C(=O)NH₂时，R⁸选自H和C_1-2烷基。