[发明专利]化学蒸镀用的有机铂化合物及使用该有机铂化合物的化学蒸镀方法有效
| 申请号： | 201280019154.4 | 申请日： | 2012-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN103492399A | 公开（公告）日： | 2014-01-01 |
| 发明（设计）人： | 铃木和治;锅谷俊一;斋藤昌幸 | 申请（专利权）人： | 田中贵金属工业株式会社 |
| 主分类号： | C07F15/00 | 分类号： | C07F15/00;C23C16/18 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 胡烨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： |
本发明是一种有机铂化合物，该有机铂化合物用于通过化学蒸镀法制造铂薄膜或铂化合物薄膜，其特征在于，是以下式表示的、由己二烯或己二烯衍生物以及烷基阴离子与2价的铂配位而成的有机铂化合物。下式中，作为取代基的R1、R2为烷基；R1、R2可以不同；此外，R3、R4为氢或烷基；R3、R4可以不同。本发明的铂化合物的稳定性良好，在成膜时不会产生有毒物质，因此处理性也良好，实用性优异。此外，其蒸气压高，能进行低温下的成膜，作为容易进行立体结构上的成膜的CVD原料有用。[化1] |
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| 搜索关键词： | 化学 蒸镀用 有机 化合物 使用 方法 | ||
【主权项】：
1.有机铂化合物，该有机铂化合物用于通过化学蒸镀法制造铂薄膜或铂化合物薄膜，其特征在于，是以下式表示的、由己二烯或己二烯衍生物以及烷基阴离子与2价的铂配位而成的有机铂化合物；[化1]![]()
式中，作为取代基的R1、R2为烷基；R1、R2可以不同；此外，R3、R4为氢或烷基；R3、R4可以不同。
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