[发明专利]光学透镜的制造方法有效
| 申请号： | 201280019458.0 | 申请日： | 2012-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN103502877A | 公开（公告）日： | 2014-01-08 |
| 发明（设计）人： | 大久保繁树;山之内政仁 | 申请（专利权）人： | HOYA株式会社 |
| 主分类号： | G02C7/02 | 分类号： | G02C7/02;G02B5/22 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 刘晓迪 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种在透镜基材上的规定位置，不用限定材料即可形成处理图案的光学透镜的制造方法。在设定于透镜基材（11）的透镜区域的外侧形成对位用的标记。通过喷墨法，在透镜基材（11）的一主面侧的上方，以标记为基准一边控制印刷位置一边在透镜区域的规定位置图案形成具有开口图案（21a）的遮蔽层（21）。通过自遮蔽层（21）上方的处理，对从遮蔽层（21）的开口图案（21a）露出的露出面实施选择性处理。从透镜基材（11）上去除遮蔽层（21），在透镜基材（11）的一主面侧形成透明图案（19a）作为基于上述选择性处理得到的处理图案。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 透镜 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光学透镜的制造方法，进行如下工序：在设定于透镜基材的透镜区域的外侧形成对位用的标记；在所述透镜基材的一主面侧的上方，以所述标记为基准一边控制形成位置一边在所述透镜区域的规定位置图案形成具有开口的遮蔽层；通过自所述遮蔽层上方的处理，对该遮蔽层的开口底部的露出面实施选择性处理；从所述透镜基材上去除所述遮蔽层，在该透镜基材的一主面侧形成基于所述选择性处理得到的处理图案。
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