[发明专利]无金的欧姆接触有效

专利信息
申请号: 201280020021.9 申请日: 2012-05-18
公开(公告)号: CN103636001A 公开(公告)日: 2014-03-12
发明(设计)人: R·V·谢拉卡拉;T·E·卡齐奥;J·R·拉罗什 申请(专利权)人: 雷声公司
主分类号: H01L29/45 分类号: H01L29/45;H01L29/20;H01L29/778
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 张伟;王英
地址: 美国马*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种半导体结构,其具有:半导体;无金的导电结构,其与该半导体欧姆接触;以及一对导电层,其通过硅层分隔开。该结构包括:难熔金属层,其布置为与该半导体接触;并且其中通过该硅层分隔开的该对导电层中的一个是该难熔金属层。第二硅层被布置于该对导电层中的第二个之上,并且包括在该第二硅层上的第三导电层。在一实施例中,该半导体包括III-V族材料。
搜索关键词: 欧姆 接触
【主权项】:
一种器件,包括:III‑V族半导体;以及无金的导电结构,其与所述半导体欧姆接触。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于雷声公司,未经雷声公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201280020021.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top