[发明专利]等离子处理装置和等离子处理方法无效
| 申请号： | 201280021389.7 | 申请日： | 2012-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN103503580A | 公开（公告）日： | 2014-01-08 |
| 发明（设计）人： | 平山昌树 | 申请（专利权）人： | 国立大学法人东北大学 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;C23C16/509;H01L21/205 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种等离子处理装置，针对大尺寸的基板，能够改善用VHF频带那样的高频激励的等离子的密度的均匀性。等离子处理装置具有形成波导路（WG）的波导路部件（401）；从波导路（WG）的长度方向（A）上的规定的馈电位置向该波导路（WG）内供给电磁能的同轴管（225）；以及电场形成用的多个电极（461），其经由波导路（WG）被供给电磁能，并以面对等离子形成空间PS的方式被配置。多个电极（461）沿着波导路（WG）的长度方向（A）排列，多个电极（461）分别沿波导路（WG）的宽度方向（B）延伸。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种等离子处理装置，其特征在于，具有：形成波导路的波导路部件；传送路，从上述波导路的长度方向上的规定的馈电位置向该波导路内供给电磁能；以及电场形成用的多个电极，其经由上述波导路被供给电磁能，并以面对等离子形成空间的方式配置，上述多个电极沿着上述波导路的长度方向排列，上述多个电极分别沿上述波导路的宽度方向延伸。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国立大学法人东北大学，未经国立大学法人东北大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201280021389.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
